构成侵犯专利权的条件是：

　　构成专利侵权行为的要件包括两个方面：形式条件和实质条件。

　　形式要专利侵权及其法律责任件主要有：

　　1、实施行为所涉及的是一项有效的中国专利；

　　2、实施行为必须是未经专利权人许可或者授权的；

　　3、实施行为必须是以生产经营为目的。对于行为人是否具有主观故意并不是形式要件。但是，可以作为衡量其情节轻重的依据。

　　实质条件构成专利侵权主要有以下几种表现形式：

　　1、行为人所涉及的技术特征与专利的技术特征全部相同，则构成侵权；

　　2、行为人所涉及的技术特征多于专利的技术特征，也构成侵权；

　　3、行为人所涉及的技术特征与专利的技术特征有相同的，有相异的，但是，相异的技术特征与专利的技术特征是等效的，仍构成侵权；否则，不构成侵权。这里技术特征等效，是指所属技术领域的普通技术人员你那能够推断出某两种技术特征彼此替换后，所产生的效果相同。